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日本三井化学将量产光刻机零部件产品，支持 ASML 下一代光刻机，生产线预计 2025 年 12 月完工，年产能 5000 张。
快讯正文
【日本三井化学将量产半导体最尖端光刻机零部件产品】日本三井化学日前透露，将着手量产半导体最尖端光刻机的零部件产品，即保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品。该公司***在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，预计年产能力为 5000 张，生产线预计于 2025 年 12 月完工。此产品可支持荷兰阿斯麦（ASML）将推出的下一代光刻机。
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